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Goiânia, GO
A revista internacional Fashion Magazine NYC publicou recentemente uma matéria com a atriz Maria Gal, onde ela aparece em um belo ensaio, vestida por um look exclusivo para a capa da revista, assinado pelas estilistas Maísa Gouveia e Natalia Gouveia. Maria já se apresentou no Brasil e no exterior, com o prêmio de melhor atriz no Festival de Cinema de Madri. Diversidade e representatividade negra são temas que fazem parte de seu DNA como artista, negra e cidadã.
O ensaio foi fotografado no Hotel Windsor Copacabana, e contou com produção e styling de Márcia Dornelles e fotos de Camila Mendes. Maísa e Natalia Gouveia vem se destacando em várias revistas Nacionais e Internacionais, isso é fruto de décadas de trabalho árduo com muita competência e ética no estado de Goiás. Confira alguns destaques das Estilistas.
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